华灿光电申请发光器件及发光器件制备方法专利，减少发光器件的色彩偏差

金融界2025年8月6日消息，国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“发光器件及发光器件制备方法”的专利，公开号CN120435152A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本公开提供了一种发光器件及发光器件制备方法。发光器件包括：衬底、匀光层和至少一个发光二极管芯片；匀光层包括基质层和多个纳米颗粒，基质层位于衬底上，多个纳米颗粒均匀分布在基质层内，至少一个发光二极管芯片位于基质层上。基质层中的纳米颗粒可对发光二极管芯片发出的光进行瑞利散射和米氏散射，改变发光器件的出光角度。在发光器件包括不同颜色的发光二极管芯片时，由于不同颜色的发光二极管芯片位置不同，容易造成不同视角下不同颜色存在强度差异，进而带来色彩偏差，而本公开实施例由于匀光层的设置，可以平衡不同颜色的发光二极管发出的光散射到相同区域的强度，从而减少发光器件的色彩偏差。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目42次，专利信息970条，此外企业还拥有行政许可37个。