国际知名科技媒体WccFTech说中国EUV光刻机2025年第三季度试产

发布时间:2025-06-26 19:02  浏览量:2

国际知名科技媒体WccFTech说中国EUV光刻机2025年第三季度试产——推测HW、Shinkailai已搞定

WCCFtech:China ' s In - House EUV Machines Reportedly Entering Trial Production In Q3 2025, Utilizing An Approach That Offers A Simpler , Efficient Design ; SMIC & Huawei To Benefit Greatly.

Omar Sohail ·Mar 10, 2025 at 03:31am EDT

翻译如下:

WCCFtech:中国自主研发的 EUV 光刻机将于2025年第三季度进入试生产阶段,采用一种更简单、高效的全新设计;中芯国际( SMIC )和华为将因此获益巨大。

2025年3月,科技媒体 Wccftech 的一篇报道在全球半导体行业内激起了广泛关注。据报道,中国自主研发的 EUV 光刻机预计将在第三季度迈入试生产阶段,其核心技术为创新的激光诱导放电等离子体( LDP )技术。

无独有偶,新凯来于2025年3月26日至28日高调参加了在上海举办的上海国际半导体展览会(SEMICON China 2025)。在此次展会上,新凯来首次亮相便引发了行业的高度关注,展示了其多款自主研发的半导体设备,这些设备基本覆盖了半导体制造的全流程。新凯来的参展不仅展示了其在半导体设备领域的技术实力,也进一步证明了其在该领域的突破和发展。

WCCFtech先报道,随后新凯来高调参加了在上海举办的上海国际半导体展览会与,并非巧合。

WccFTech是一家国际知名的科技媒体,专注于输出高质量、专业性的内容,在海外游戏与科技领域具有广泛影响力。

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核心业务与报道范围:硬件评测涵盖处理器、显卡等核心硬件的规格参数、性能测试及市场趋势分析。例如,曾报道英特尔酷睿5 120F处理器(6核12线程、睿频4.5GHz)的详细参数。

另据报道:华为+哈工大联合研发LDP光源:固体脉冲激光器生成13.5nm极紫外光,能量转换率3.42%。

​每小时处理250片晶圆,比ASML的光源快2.25倍。华卓精科双工件台实现2nm定位精度,2025年推出DWSi系列,2026年升级至EUV级,定位精度0.1nm。

​光源+工件台+整机形成闭环,2026年量产首台国产EUV光刻机,成本ASML的1/3,支持3nm麒麟芯片流片。

我们有理由相信,华为、新凯来共同搞定了EUV光刻机,2025年第三第四季度试产。

2026年,中国EUV光刻机将量产,华为智能手机将搭载中国EUV光刻机量产的3纳米4纳米处理器。